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03.09.2012

Das innBW-Institut für Mikroelektronik Stuttgart IMS CHIPS beteiligt sich am BMBF-Projekt zur EUV-Lithografie

ETIK Projekt EUV Lithografie

ETIK Projekt EUV Lithografie

Das unter Konsortialführerschaft von Carl Zeiss gestartete Verbundprojekt soll die Auflösung der EUV-Lithografie von bisher 20 Nanometer auf mindestens 14 Nanometer verfeinern. Bei der EUV-Lithografie handelt es sich um eine Schlüsseltechnologie in der Herstellung von Mikrochips: Deren Funktionselemente werden mit diesem Verfahren unter Verwendung von extrem kurzwelligen Licht der Wellenlänge 13,5 Nanometer von einer Maske auf einen Siliziumwafer abgebildet. Je kurzwelliger das Licht ist, desto kleinere Strukturen können auf dem Mikrochip abgebildet werden. Damit kann der Platz auf den Mikrochips optimal ausgenutzt werden, was die Miniaturbauteile noch energiesparender, potenter und preisgünstiger macht. Das IMS CHIPS Stuttgart stellt leistungsfähige optische Bauelemente zur Verfügung und trägt damit zur Qualitätssicherung der Projektionsobjektive bei. Das BMBF fördert das auf drei Jahre angelegte Projekt mit insgesamt sieben Millionen Euro.